药物开发

杂质

高分辨率,高端多学科分析,为患者提供最高的安全性。

由患者安全驱动的监管期望使得API(活性药物成分)和药品杂质鉴定、定量和控制成为药物开发的基本步骤。在工艺开发、优化和转换过程中进行杂质分析是保证原料药和成品质量的基本要求。

ICH Q3A指南将杂质分为3类:有机(起始原料、副产物、中间体、转化产物、相互作用产物、降解产物、试剂、配体和催化剂)、无机(试剂、配体、催雷竞技网页版化剂、重金属或残留金属、无机盐和其他材料,如木炭或助滤剂)和溶剂。多形物和对映物在ICH Q3A中未被考虑,但它们是另一种需要识别、定量和控制的污染物。杂质分析包括鉴定,结构说明以及原料药和制剂中杂质和降解产物的定量测定。雷竞技网页版

通常使用色谱和光谱技术单独使用或与其他技术结合使用,例如LC-MS和GC-MS。由于磁共振杂质分析和降解研究(例如聚山梨酯)的定量性质,直接进行快速简便的测试,无需响应因子计算或传统LC方法所需的方法重新开发活动,从而节省了时间并降低了成本。

未知杂质、降解剂和力降解产物的结构解析通常是通过分离/制备步骤,然后是NMR和MS数据分析的组合来完成的。对于API剂量< 2g /天,有机杂质阈值为0.1%。任何超过该阈值的杂质都需要被识别。一旦结构已知,允许的阈值可能增加到0.5%,减轻合成和纯化步骤的压力。EPR光谱学揭示了其他看不见的杂质,如自由基和过渡金属,这在强制降解(例如氧化)研究和保质期测定中特别重要。EPR是直接和非侵入性检测、鉴定和定量顺磁杂质(有机自由基和过渡金属)的唯一技术,LODs低至十亿分之一的水平。

重金属杂质可以通过x射线荧光(TXRF, XRF)识别,量化和监测,低至十亿分之一的水平。USP和ICH都建立了(T)XRF作为分析重金属(如as, Hg, Co, V, Ni)和典型催化剂元素(如Pt, Pd, Rh和V)的工具,详见USP 232, 233, 735和ICH Q3D。

XRD直接探测晶体结构,因此可以检测和区分不同的多晶。这允许控制和预测可能发生的多态变化,并将对原料药质量的不利影响降低到0.1%重量%的水平。

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