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- 纳米有机污染物
- 低K二电
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有机纳米污染物对半导体和数据存储公司是一个严重的缺陷问题,而当前定性技术能力有限。上头纳米里3雷竞技网页版系统获取空间分辨率下至10纳米的IR光谱,使测量这些缺陷和其他半导体材料成为可能
光谱使用Bruker专利AFM-IR技术生成与传统FTIR光谱直接相关并因此可与标准FTIR库相仿除化学分析外,NMERR3提供以纳米空间分辨率补充机械、电热和结构属性信息
