JV-DX
最新一代半导体薄膜分析x射线测量系统
设计用于各种薄膜应用
ハ▪▪ラ▪▪ト
JV-DX
布鲁克JV-DX是最新一代的x射线测量系统，用于半导体薄膜分析的材料研究，工艺开发和质量控制。雷竞技网页版该系统采用全自动光源光学系统，可以在标准XRD、高分辨率XRD (HRXRD)和x射线反射率模式之间切换，无需用户干预。测量是完全自动化的配方，还能够在半手动模式下执行更深奥的测量。
强劲的5轴
欧拉摇篮
具有完整的300毫米晶圆映射和容量的大和小样品
包含多个应用程序
雷竞技网页版材料研究工具
支持薄膜研发以满足当前和未来的设计需求
前缘
数据分析包
使用我们知名的JV-RADS和JV-REFS软件提供专家数据演示和解释
特長
全300mm晶圆映射
该仪器专为各种薄膜应用而设计，包括高分辨率摇摆曲线、倒数空间映射、x射线反射率、掠入射XRD、相ID、残余应力、薄膜纹理和晶粒尺寸分析以及XRF。
样品级由一个坚固的5轴欧拉支架组成，具有完整的300毫米晶圆映射，可用于大样品和小样品。为更小的样本提供了多个样本位置，以允许跨多个样本的多个测量被排队并自动执行，即使是不同的测量类型。
サポト
支持
我们如何提供帮助?
Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术，帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去，直到工具出售很久之后。
我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级，以及应用程序支持和培训，最大限度地提高您的生产力。