纳米级红外光谱仪

维IconIR300

半导体应用的高性能纳米红外光谱和成像

Destaques

维IconIR300

Dimension IconIR300™大样本纳米ir系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征,具有无与伦比的性能、样本量和材料类型的灵活性。通过其专有的光热红外光谱和纳米级AFM属性映射功能的结合,IconIR300能够在最广泛的晶圆和掩模样品上实现自动化晶圆检测和缺陷识别。该系统极大地扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用,超出了传统技术的范围。

建立在开创性的大样本建筑尺寸IconIR系统, IconIR300提供相关的显微镜和化学成像,以及增强的分辨率和灵敏度。该系统集成了自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件,可以节省更多的时间和成本,提高生产效率。

整片
纳米级化学和材料性能表征
结合红外光谱和AFM属性映射,高精度,无损测量200毫米和300毫米晶圆。
明确的
有机/无机纳米污染物的鉴定
利用与FTIR库直接相关的光热AFM-IR数据改善半导体晶圆和掩模质量。
自动化
食谱测量
提供用户友好的全面数据访问和KLARF文件支持。

Caracteristicas

半导体工业的卓越纳米尺度红外光谱和化学成像

只有维数IconIR300系统提供:

  • 200mm和300mm晶圆的全片无损测量;
  • 利用与FTIR库直接相关的数据,明确识别半导体晶圆和掩模上的有机和无机纳米污染物;
  • 无损步高测量和纳米级材料性能映射;而且
  • 自动化的,基于配方的测量和KLARF文件支持用户友好的访问全面的数据。

200mm和300mm晶圆的整片测量

我们拥有专利的、独特的AFM-IR模式套件和专有的PeakForce tap®属性映射模式,以及IconIR300的大样品架构,为最广泛的半导体应用提供了最终的样品灵活性。IconIR300可在各种厚度和材料类型下提供直径达300毫米的全晶片样品测量,包括:

  • 有机和无机样品;
  • 有图案的晶片;
  • 裸晶片;
  • 光掩模;而且
  • 数据存储介质晶片。

此外,表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能够为沉积在半导体材料上的聚合物薄膜提供独特、可靠的表面敏感化学测量。雷竞技网页版

尺寸IconIR300系统内部视图,在300毫米晶圆缺陷检查期间

半导体应用中最高性能的纳米红外光谱

在PS-LDPE聚合物共混物的不同位置收集的高质量共振增强AFM-IR光谱,表明了高度的材料灵敏度和对纳米级材料性能的更深入的了解

Bruker是光热afm - ir纳米红外光谱技术的创新者,这是纳米红外领域的首选技术。

IconIR300提供:

  • 高精度,丰富,详细的光谱与FT-IR相关,实现薄污染物的纳米级测量;
  • 多种先进的操作模式,支持工业和学术用户对各种样品的测量;
  • 高性能的AFM-IR光谱,半导体应用中领先的纳米ir模式;而且
  • 聚合物薄膜的可靠表面敏感化学测量。

晶圆和掩模上的最高分辨率化学成像

Dimension IconIR300的行业领先的AFM性能和Bruker的专利tap AFM- ir成像共同提高了我们纳米ir技术的空间分辨率和样品可达性。

IconIR300提供:

  • <10nm化学空间分辨率,可对各种样品类型进行成像,包括软有机和无机污染物;
  • 一致、可靠、高质量的数据;而且
  • AFM-IR技术用于去除任何和所有机械伪影,确保只收集真实的化学成分。
PS-b-PMMA嵌段共聚物在AFM-IR模式下的高分辨率化学成像显示样品形貌(a);1730 (b)红外图像;和1492 cm-1 (c)分别高亮PMMA和PS。面板(b)中的黄色箭头表示化学分辨率<10 nm。覆盖图像(d)捕获组合映射。

纳米污染物的先进自动化识别

IconIR300配备了我们专有的AutoMET®软件套件,可实现多个级别的自动化,对各种样品类型进行实时和离线的无损AFM测量。

主要自动化功能包括:

  • 台阶高度调查与纳米级材料属性映射。
  • 光学和AFM图像模式识别;
  • Tip-centering;
  • 全晶片或网格映射支持;
  • 图像放置精度在几十纳米以内;
  • 全面、简单的食谱写作;而且
  • KLARF文件导入功能,支持纳米红外自动化功能。

这些功能,加上具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征,使学术和工业用户能够克服传统半导体材料缺陷识别的限制。雷竞技网页版

高度图像(a)和由此产生的光热AFM-IR光谱(b)来自裸露硅片上的污染物。从FTIR库中得到的匹配结果确定污染物为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

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