m-VI
第六代AFM制导纳米机
5nm制作照相机修理
亮点
精密修复高级临界光片
布鲁克AFM纳米机系统是全球标准优先生产技术,用于精密修复高级临界光片m-VI®系统Bruker六代AFM-Guided纳米机m-VI将Bruker拆分为公司开发并交付创新纳米级材料编程,以保持半导体产业与5纳米技术节点相协调
广域
雷竞技网页版可移动材料
雷竞技网页版包括chrome、Mosi、不透明Mosi、SiN、Quartz、EUV、外国材料和持久未知粒子
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边缘定位
fm引导纳米机修复过程由最终几何定义,独立于物料组成、物料接口或几何删除
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深度控制
异常z控制允许修复与指定的引用或基底或下偏差匹配精确相匹配
特征学
行业领先掩码修复法
Nanomachining是半导体行业独有缺陷修复技术,将AFM定位控件和专有Nanomaching硬件和软件合并实现纳米级材料清除
雷竞技网页版其吸引力在于准确清除各种材料缺陷,包括chrome、Mosi、不透明Mosi、siconnitride、Quertz、EUV、外国材料和未知粒子迭代修复功能和平面清除保证修复区
解决行业关键挑战
以六代近20年内联经验,BrukerAFM制导纳米机拥有独特的优化和增强控制模式缺陷显著特征包括:
- 标准BitClean-函数-特殊硬件和软件自动化提供极前局部净化能力
- 集成局部模式函数与系统接轨
- 设计图像检索包(可选择性)包括计算机硬件和nm-VI系统接口软件提供从原设计文档取面罩修复区图象段的能力,校正AFM扫描图像,显示并叠加指定修理区操作员执行修复
技术最小交换
m-VI提供实证纳米图案少有反向以FM为基础的纳米合成技术夸耀着其他掩罩系统(聚焦离子束和激光或电子束修复系统)。
- 无真空需求
- 无化学
- 无化学残留物
- 无波束充电特效
- 无需通过重新注册不良定位标志来持续漂移校正
支持
支持
需要帮助吗
Bruker和客户解决现实应用问题开发下一代技术帮助客户选择正确的系统与配件合伙关系继续通过培训扩展服务进行,远在工具售出后
高素质支持团队工程师、应用科学家和专题专家全心全意致力于通过系统服务升级应用支持培训实现生产率最大化