nm-VI
第六代原子力显微镜引导纳米机器
5nm生产光掩膜修复
汪汪汪汪
精密修复先进的，临界水平的光掩膜
布鲁克的AFM纳米加工系统是全球标准和首选的生产技术，用于先进的、临界水平的光罩的精密修复。的nm-VI®系统是布鲁克公司的第六代原子力显微镜引导纳米机器。作为一家能够开发和提供创新纳米级材料成型工艺的公司，nm-VI使布鲁克脱颖而出，使半导体行业与5纳米技术节点保持一致。
广泛
可移动材料雷竞技网页版
包括铬，MoSi，不透明MoSi, SiN，石英，EUV，外来材料和持久性未知颗粒。雷竞技网页版
≤20 Å
边缘放置(从目标±)
原子力显微镜引导的纳米加工修复过程由最终几何形状定义，与材料成分、材料界面或被移除的几何形状无关。
≤10 Å
深度(Z)控制(距目标±)
非凡的z控制允许修理特别匹配到指定的参考或差分偏置在基材表面或下面的精确相位匹配。
特長
行业领先的面膜修复方法
纳米加工是半导体行业中一种独特的缺陷修复技术，结合了AFM的位置控制和专有的纳米加工硬件和软件来执行纳米级的材料去除。
它的吸引力在于精确和准确地去除各种材料的缺陷，包括铬、MoSi、不透明MoSi、氮化硅、石英、EUV、异物和未知颗粒。雷竞技网页版它的迭代修复能力和平面材料去除保证了修复区域具有更宽的“穿透焦点”传输窗口。
解决行业的关键挑战
凭借六代和近20年的在线经验，布鲁克的afm引导纳米机器拥有独特的优化和增强功能，以控制高端光掩膜生产中的图案缺陷，减少特征尺寸和增加掩膜复杂性。值得注意的功能包括:
- 标准BitClean®功能-特殊的硬件和软件自动化，使用纳米加工尖端提供最终的膜前局部清洁能力，以去除持久的未知颗粒污染。
- 集成的本地模式复制功能是系统的标准配置。
- 设计图像检索包(可选)包括计算机硬件和nm-VI系统接口软件。它提供了从原始设计文件中检索掩模修复区域图案图像片段的能力，校正AFM扫描图像，显示并覆盖在指定的修复区域，供操作员执行修复。
一种代价最小的技术
nm-VI提供了经过生产验证的纳米加工，缺点很少。与其他(聚焦离子束(FIB)和激光或电子束)掩模修复系统相比，基于afm的纳米加工技术具有以下优点。
- 无真空要求
- 没有化学反应
- 无化学残留物
- 没有光束相关的充电效应
- 不需要通过重新配准不需要的定位标记来进行不断的漂移校正
超级超级超级超级
支持
我们能帮什么忙?
布鲁克与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发下一代技术，帮助客户选择合适的系统和配件。这种伙伴关系通过培训和延长的服务，在工具销售后很长一段时间内继续下去。
我们训练有素的支持工程师，应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训最大限度地提高您的生产力。