FilmTek 3000
结合reflection-transmission分光光度法对未成形的吸收电影透明基板
突出了
FilmTek 3000
的FilmTek™3000 reflection-transmission分光光度计为用户提供了一个可靠、高效、设备解决方案描述未成形的薄膜沉积在透明基板,尤其是非常薄吸收电影像那些用于LED / OLED、太阳能光伏和平板显示器的应用程序。
该系统结合DUV-NIR光纤与专有色散分光光度计和材料建模能力在一个完全自动化,高效的工具。这种设计使同时反射和传输数据的收集需要调查未成形的吸收薄膜的性能和一致性。3000 FilmTek因此能够克服多个研发和制造的挑战与这些电影有关。
可选的功能和硬件可以添加到这个系统来支持更专业的测量需求,包括偏振测定测量和大规模的自动化样品阶段支持平板显示器的应用程序。
流线型的
结合reflection-transmission系统
提供了一个可靠、准确选择调查非常薄的透明基质吸收电影。
设备
反射和透射测量
使高效特性未成形的电影,甚至那些强烈吸收。
易于使用的
集成的硬件和软件
提供无缝的自动化和简单的定制支持更先进的测量需求。
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特性
测量功能
可以同时测定:
- 多个层厚度
- 的折射指数(n(λ))
- 灭绝(吸收)系数(k(λ))
- 能量带隙(如)
- 组成部分,空隙率
- 表面粗糙度
系统组件
标准:
- DUV-NIR光纤分光光度计
- 反射光谱测量
- 光谱传输测量
- 自动化阶段
- 先进材料建模软件
- 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法
可选:
- 大型平板显示器应用程序自定义阶段
- 自动化的样品处理
- 秒/宝石兼容性
- Polarimitery测量能力
应用程序
典型应用领域
几乎所有的半透明的薄膜厚度从低于100,约150µm可以测量精度高。典型的应用领域包括:
- 领导/ OLED
- 平板显示器
- 太阳能光伏
与灵活的硬件和软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求在学术、研发和生产环境。
规范
技术规格
| 膜厚度范围 | 3 nm 150µm |
|---|---|
| 膜厚度精度 | 1000±1.5 NIST可追踪的标准氧化1µm |
| 光谱范围 | 220 nm - 1700 nm (240 nm - 1000 nm标准) |
| 测量光斑大小 | 3毫米 |
| 样本大小 | 2毫米- 500毫米(150毫米标准;较大的阶段根据客户要求提供) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2海里 |
| 光源 | 监管deuterium-halogen灯(2000小时寿命) |
| 探测器类型 | 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR) |
| 电脑 | 多核处理器操作系统Windows™10 |
| 测量时间 | < 1秒/站点(例如,氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| 氧化/ Si | 200 - 500 | t | 0.5 |
| 500 - 10000 | t | 0.25 | |
| 1000年,一个 | t、n | 0.25 / 0.001 | |
| 氮化硅/硅 | 200 - 10000 | t | 0.5 |
| 光刻胶/ Si | 200 - 10000 | t | 0.5 |
| 晶硅/氧化/ Si | 200 - 10000 | t | 0.5 |