FilmTek 2000
微光斑尺寸台式反射仪用于需要极小光斑尺寸的有图案的薄到很厚的薄膜应用
突出了
FilmTek 2000
FilmTek™2000M台式微光斑尺寸台式反射仪提供了无与伦比的通用性和性能，满足了需要非常小光斑尺寸的图像化薄膜应用的需求。
该系统允许在薄和很厚的薄膜上测量小至2微米的光斑尺寸，而不会出现传统薄膜测量系统固有的信号退化和光学伪影。与这些系统不同的是，FilmTek 2000M通过结合我们专利的低功率物镜光学设计和几乎准直的光束，在小和微点测量中始终实现高信号保真度。这种设计-我们的“M”系列仪器的特点-使FilmTek 2000M在具有挑战性的样品和需要微光斑尺寸测量的应用中，比传统的大功率物镜仪器提供更高的精度和可靠性。
可供选择优化FilmTek 2000M的设计，以实现对图样样品的全自动成像关键尺寸(CD)测量，允许同时进行CD和薄膜厚度测量。
非常厚的薄膜
样本的兼容性
使样品的精确表征远远超出竞争系统的可测量厚度范围。
Micro-spot
光学设计
可实现小测量光斑尺寸小于2 μm。
多才多艺的
光谱反射计
能够在许多不同的应用领域测量广泛的薄膜类型和厚度。
了解更多关于这个乐器的知识。
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特性
测量功能
可同时测定:
- 多层厚度
- 折射率[n(λ)]
- 消光(吸收)系数[k(λ)]
- 能带隙[Eg]
- 临界尺寸(CD)测量
系统组件
标准:
- 光谱反射测量
- 5nm至350µm膜厚范围
- 2µm光斑尺寸(5×10µm标准)
- 自动对焦的自动舞台
- 相机用于成像测量位置
- 模式识别
- 先进的材料建模软件
- 布鲁克广义材料模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动化晶片处理
- 秒/宝石
应用程序
典型应用范围
典型应用领域包括:
- 晶片/ CD计量
- 化合物半导体
- 数据存储
- 平板显示器
灵活的软件，可以轻松修改，以满足研发和生产环境中独特的客户需求。
规范
技术规格
| 薄膜厚度范围 | 5 nm至350µm(标准为5 nm至150µm) |
|---|---|
| 薄膜厚度精度 | ±1.5 Å用于NIST可追溯标准氧化物1000 Å至1µm |
| 光谱范围 | 380纳米- 1700纳米(标准为380纳米- 1000纳米) |
| 测量光斑大小 | 2µm (5x10µm标准，10x物镜) |
| 样本大小 | 2毫米- 300毫米(标准为150毫米) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2 nm |
| 光源 | 调节卤素灯(寿命2000小时) |
| 探测器类型 | 2048像素Sony线阵/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(近红外) |
| 电脑 | 多核处理器，Windows™10操作系统 |
| 测量时间 | 每个部位<1秒(如氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ） |
|---|---|---|---|
| 氧化物/硅 | 500 - 1000nm | t | 0.025纳米 |
| 1 - 150µm | t | 0.005% |