低温清洗晶片

wc - 2200

非水渠CO₂低温干洗

从激进到温和

环境安全

做marquants

低温干燥CO₂晶圆清洗系统

布鲁克晶圆清洁2200系统使用独特的二氧化碳(CO .)去除硅,复合半导体,MEMS和薄膜头基板上的颗粒污染和薄膜有机残留物2)清雪过程。有限公司2雪地清扫快速、环保、无损伤。与传统的湿式和等离子清洗技术相比,全干式工艺具有许多优点。这种全自动的大批量生产系统已在全球范围内的大批量生产应用中经过现场验证,超过100个系统全天候运行。

25 WPH
光栅扫描移动
全局和局部清洗
产量提高
清洁效率可达120nm
除去面纱和栅栏
环境安全
溶剂免费
零危险废物

应用程序

支持

支持

我们如何提供帮助?

Bruker与我们的客户合作解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务继续下去,直到工具出售很久之后。

我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队完全致力于通过系统服务和升级,以及应用程序支持和培训,最大限度地提高您的生产力。

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