wc - 2200
Non-Aqueos₂低温干洗
从积极的温柔
环境安全
ハイライト
低温干燥公司₂晶圆清洗系统
力量晶片洁净2200系统去除微粒污染和薄膜有机残留硅化合物半导体,MEMS和薄膜基板使用独特的二氧化碳(有限公司2)雪清洗过程。有限公司2雪清洗速度快,环保,不污染。完全干燥过程提供了众多的优势传统湿和等离子清洗技术。这完全自动化,高容量生产系统领域证明超过100系统运行24/7全球高容量生产应用程序。
25 WPH
光栅扫描运动
全球和本地清洁
产量提高
清洗效率下降到120海里
IBE面纱,栅栏拆除
环境安全
溶剂免费
零危险废物
アプリケーション
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サポート
支持
我们如何帮助?
力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。
我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。