TriboLab CMP
R&D-scale过程和材料表征系统
突出了
TriboLab CMP
利用20多年的CMP描述专业知识与它的前身产品(力量CP-4), TriboLab CMP带来了一套完整的功能到行业领先的TriboLab平台。测量结果的准确性和重复性使高效的资格,检查,和正在进行的功能测试要求整个CMP过程。TriboLab CMP是唯一处理市场上的开发工具可以提供一个广泛的抛光压力(0.05 -50 psi)、速度(1到500 rpm),摩擦,声学排放,和表面温度测量准确、完整描述的CMP过程和耗材。
无与伦比的
ROI小规模研发系统
这个台式工具繁殖全面晶片抛光工艺条件不停机生产设备。
灵活的
参数控制
允许定制测试加速材料开发和完善流程与准确性。雷竞技网页版
专家
应用程序和支持
我们许多年的工作与一个大型安装你的实验室提供技术基础。
Eigenschaften
小为CMP R&D-Scale专业系统
力量的TriboLab CMP过程和材料描述系统设计的专门为可靠、灵活、成本效益的长椅上晶片抛光过程的描述。
- 繁殖全面晶片抛光工艺条件不停机生产设备
- 提供了无与伦比的测量重复性和细节
- 允许测试小优惠券在整片测试可观的成本节约
为更好地了解抛光过程车载诊断
测试调节盘TriboLab CMP测试仪。测试确定两组盘。摩擦系数测试与垫磨损。
- 提供更多的可见性瞬态抛光性能比市场上其他系统
- 收集的数据即时衬底接触垫和在整个测试
- 使早期流程开发决策通过更完整、详细的数据
灵活的样本类型、大小和安装配置
- 任何平面抛光材料,使用任何调节盘,泥浆,任何垫
- 适应小优惠券轻松通过整个100 mm晶圆
- 接受多个样品支架的灵活性
CMP测试仪护发素垫测试的示意图。