TriboLab CMP
研发规模的工艺和材料表征系统
Punti salienti
TriboLab CMP
凭借其前身产品(Bruker CP-4)超过20年的CMP表征专业知识，TriboLab CMP为行业领先的TriboLab平台带来了一整套功能。由此产生的准确性和测量可重复性使整个CMP过程所需的高效鉴定、检查和持续功能测试成为可能。TriboLab CMP是市场上唯一的工艺开发工具，可以提供广泛的抛光压力(0.05-50 psi)，速度(1至500 rpm)，摩擦，声发射和表面温度测量，以准确和完整地表征CMP工艺和消耗品。
无与伦比的
小规模研发系统的投资回报率
这款台式工具重现了全尺寸的晶圆抛光过程条件，而无需停机生产设备。
灵活的
参数控制
允许量身定制的测试，以加速材料的开发和完善过程的准确性。雷竞技网页版
专家
应用程序和支持
我们多年来与大型安装基地合作，为您的实验室提供专业知识。
Caratteristiche
小型研发规模的CMP专业系统
Bruker的TriboLab CMP工艺和材料表征系统从头开始设计，专门用于可靠，灵活和具有成本效益的晶圆抛光工艺的台架表征。
- 在生产设备不停机的情况下重现全尺寸晶圆抛光工艺条件
- 提供无与伦比的测量重复性和细节
- 允许在小片上进行测试，比整片测试节省大量成本
机载诊断，以更好地了解抛光过程
在TriboLab CMP测试机上测试调节盘。测试确定了两组光盘。摩擦系数测试与垫片磨损有关。
- 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光性能可见性
- 从衬底接触衬垫的瞬间和整个测试过程中收集数据
- 通过更完整、更详细的数据支持早期过程开发决策
灵活的样品类型，大小和安装配置
- 抛光任何平面材料，使用几乎任何调理盘，任何浆料和任何垫
- 通过整个100毫米晶圆片轻松容纳小券
- 接受多个样品支架的灵活性
调理剂垫试验用CMP测试仪原理图。