机械测试

TriboLab CMP

研发规模的工艺和材料表征系统

Destaques

TriboLab CMP

利用超过20年的CMP表征专业知识及其前身产品(Bruker CP-4), TriboLab CMP为行业领先的TriboLab平台带来了一整套功能。由此产生的精度和测量可重复性使整个CMP过程所需的高效鉴定、检查和正在进行的功能测试成为可能。TriboLab CMP是市场上唯一的工艺开发工具,可以提供广泛的抛光压力(0.05-50 psi),速度(1至500 rpm),摩擦,声发射和表面温度测量,以准确和完整地表征CMP工艺和耗材。

无与伦比的
小规模研发系统的投资回报率
这种台式工具再现全尺寸晶圆抛光工艺条件,而不停机的生产设备。
灵活的
参数控制
允许量身定制的测试,以加速材料开发和精确地改进工艺。雷竞技网页版
专家
应用和支持
我们多年来与大型安装基地合作,为您的实验室提供专业知识。

Caracteristicas

特性

面向CMP的小型研发专业系统

Bruker的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专门为晶圆抛光工艺的可靠,灵活和具有成本效益的bench表征而设计的。
  • 再现全尺寸晶圆抛光工艺条件,生产设备无停机时间
  • 提供无与伦比的测量重复性和细节
  • 允许在小优惠券上进行测试,大大节省了整个晶圆测试的成本

机载诊断,更好地理解抛光过程

在TriboLab CMP测试仪上测试调节圆盘。测试确定了两组光盘。摩擦系数测试与衬垫磨损有关。
  • 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光性能的可见性
  • 从衬底接触衬垫的瞬间和整个测试过程中收集数据
  • 通过更完整、详细的数据支持早期流程开发决策

样品类型,尺寸和安装配置的灵活性

  • 抛光任何平面材料,使用几乎任何调理盘,任何浆液,任何垫
  • 通过整个100毫米晶圆轻松容纳小优惠券
  • 接受多个样本安装的灵活性
用于空调衬垫测试的CMP测试仪示意图。

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