FilmTek 3000
透明衬底上有图案的、不均匀的和厚膜的微点反射-透射计量
突出了
FilmTek 3000
FilmTek™3000M微光斑反射-透射测量系统能够高效准确地测量沉积在透明衬底上的图像化薄膜，包括晶圆。此外，它优于传统系统的微点测量能力，即使是在不均匀的样品上，并且可以表征比竞争仪器可以容纳的厚得多的薄膜。
传统的微点薄膜测量系统使用高功率物镜，使其容易出现明显的信号退化和光学伪影。相反，FilmTek 3000采用了我们专利的基于显微镜的光学设计，这是我们所有“M”系列仪器的特点，具有低功率物镜和几乎准直的光束。因此，它能够实现小到2微米的测量光斑尺寸，在小和微光斑测量期间始终保持高信号保真度。因此，FilmTek 3000M提供了具有最大信号相干性的光谱反射和透射测量，为传统仪器不易测量或难以测量的样品提供了一流的精度和可靠性。
可供选择优化FilmTek 3000M的设计，以实现更专业的测量，包括用于平板显示应用的大型定制样品台。该系统还可以配置为提供全自动的基于成像的关键尺寸(CD)的花纹样品测量，允许同时进行CD和薄膜厚度测量。
吸收
样本的兼容性
能够精确地表征竞争系统无法测量的样品。
可定制的
专业配置
扩展平板显示器和晶圆/CD计量应用的测量能力和样品兼容性。
2 um点
用几乎准直的光束
最大限度地提高反射和传输测量信号的相干性和可靠性。
了解更多关于这个乐器的知识。
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特性
测量功能
可同时测定:
- 多层厚度
- 折射率[n(λ)]
- 消光(吸收)系数[k(λ)]
- 能带隙[Eg]
- 临界尺寸(CD)测量
系统组件
标准:
- 光谱反射测量
- 光谱透射测量
- 专利的基于显微镜的光学设计，允许亚10µm光斑与低功率物镜
- 5纳米- 50微米厚度范围
- 2 um光斑尺寸(5x10 um标准)
- 自动对焦的自动舞台
- 相机用于成像测量位置
- 模式识别
- 用于平板显示应用的大型定制舞台
- 先进的材料建模软件
- 布鲁克广义材料模型与先进的全局优化算法
可选:
- 自动化的平板/晶圆处理
- 平板总厚度变化(TTV)测量
- 秒/宝石
应用程序
典型应用范围
典型应用领域包括:
- 晶片/ CD计量
- 平板显示器
灵活的软件，可以轻松修改，以满足研发和生产环境中独特的客户需求。
规范
技术规格
| 薄膜厚度范围 | 5 nm至350µm(标准为5 nm至150µm) |
|---|---|
| 薄膜厚度精度 | ±1.5 Å用于NIST可追溯标准氧化物1000 Å至1µm |
| 光谱范围 | 380纳米- 1700纳米(标准为380纳米- 1000纳米) |
| 测量光斑大小 | 2µm (5x10µm标准，10x物镜) |
| 样本大小 | 2毫米- 600毫米(标准为150毫米) |
| 光谱分辨率 | 0.3 - 2 nm |
| 光源 | 调节卤素灯(寿命2000小时) |
| 探测器类型 | 2048像素Sony线阵/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(近红外) |
| 电脑 | 多核处理器，Windows™10操作系统 |
| 测量时间 | 每个部位<1秒(如氧化膜) |
性能规格
| 电影(年代) | 厚度 | 测量参数 | 精度(1σ） |
|---|---|---|---|
| 氧化物/硅 | 500 - 1000nm | t | 0.025纳米 |
| 1 - 150µm | t | 0.005% |