椭偏法和反射法

FilmTek 3000

透明衬底上有图案的、不均匀的和厚膜的微点反射-透射计量

做marquants

FilmTek 3000

FilmTek™3000M微光斑反射-透射测量系统能够高效准确地测量沉积在透明衬底上的图像化薄膜,包括晶圆。此外,它优于传统系统的微点测量能力,即使是在不均匀的样品上,并且可以表征比竞争仪器可以容纳的厚得多的薄膜。

传统的微点薄膜测量系统使用高功率物镜,使其容易出现明显的信号退化和光学伪影。相反,FilmTek 3000采用了我们专利的基于显微镜的光学设计,这是我们所有“M”系列仪器的特点,具有低功率物镜和几乎准直的光束。因此,它能够实现小到2微米的测量光斑尺寸,在小和微光斑测量期间始终保持高信号保真度。因此,FilmTek 3000M提供了具有最大信号相干性的光谱反射和透射测量,为传统仪器不易测量或难以测量的样品提供了一流的精度和可靠性。

可供选择优化FilmTek 3000M的设计,以实现更专业的测量,包括用于平板显示应用的大型定制样品台。该系统还可以配置为提供全自动的基于成像的关键尺寸(CD)的花纹样品测量,允许同时进行CD和薄膜厚度测量。

吸收
样本的兼容性
能够精确地表征竞争系统无法测量的样品。
可定制的
专业配置
扩展平板显示器和晶圆/CD计量应用的测量能力和样品兼容性。
2 um点
用几乎准直的光束
最大限度地提高反射和传输测量信号的相干性和可靠性。
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的特性

特性

测量功能

可同时测定:

  • 多层厚度
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系数[k(λ)]
  • 能带隙[Eg]
  • 临界尺寸(CD)测量

系统组件

标准:

  • 光谱反射测量
  • 光谱透射测量
  • 专利的基于显微镜的光学设计,允许亚10µm光斑与低功率物镜
  • 5纳米- 50微米厚度范围
  • 2 um光斑尺寸(5x10 um标准)
  • 自动对焦的自动舞台
  • 相机用于成像测量位置
  • 模式识别
  • 用于平板显示应用的大型定制舞台
  • 先进的材料建模软件
  • 布鲁克广义材料模型与先进的全局优化算法

可选:

  • 自动化的平板/晶圆处理
  • 平板总厚度变化(TTV)测量
  • 秒/宝石

应用程序

应用程序

典型应用范围

典型应用领域包括:

  • 晶片/ CD计量
  • 平板显示器

灵活的软件,可以轻松修改,以满足研发和生产环境中独特的客户需求。

规范

技术规格

薄膜厚度范围 5 nm至350µm(标准为5 nm至150µm)
薄膜厚度精度 ±1.5 Å用于NIST可追溯标准氧化物1000 Å至1µm
光谱范围 380纳米- 1700纳米(标准为380纳米- 1000纳米)
测量光斑大小 2µm (5x10µm标准,10x物镜)
样本大小 2毫米- 600毫米(标准为150毫米)
光谱分辨率 0.3 - 2 nm
光源 调节卤素灯(寿命2000小时)
探测器类型 2048像素Sony线阵/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(近红外)
电脑 多核处理器,Windows™10操作系统
测量时间 每个部位<1秒(如氧化膜)

性能规格

电影(年代) 厚度 测量参数 精度(
氧化物/硅 500 - 1000nm t 0.025纳米
1 - 150µm t 0.005%

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