椭圆光度法和反射计

FilmTek 3000

Micro-spot reflection-transmission计量的花纹,不均匀,在透明基板厚膜

Najważniejsze informacje

FilmTek 3000

的FilmTek™3000 micro-spot reflection-transmission计量系统能够高效、准确的测量有图案的薄膜沉积在透明基板,包括晶片。此外,它优于传统的micro-spot测量功能的系统,即使在非均匀采样,并能描述电影比竞争更厚的仪器可以容纳。

传统micro-spot电影计量系统使用大功率的目标,使他们容易受到信号严重退化和光学构件。相反,FilmTek 3000使用我们的专利microscope-based光学设计-我们所有的“M”系列仪器的特点,具有低功耗的目标几乎平行光束。因此能够实现测量光斑尺寸下降到2µm期间与持续高信号保真度小,micro-spot测量。因此,FilmTek 3000提供与最大信号相干反射和透射光谱测量,提供一流的准确性和可靠性下测量样品不容易或与传统仪器。

选项是可用的优化FilmTek 3000的设计为更专门的测量,包括大型平板显示器应用程序定制样品阶段。这个系统也可以配置为提供完全自动化成像进行临界尺寸(CD)测量的样品,同时允许CD和膜厚度测量。

吸收
样本的兼容性
可以准确表征样本没有可衡量的竞争系统。
可定制的
专业配置
扩展测量功能和样本兼容性为平板显示器和薄片/ CD计量应用程序。
2嗯现货
近平行梁
最大化信号反射和透射测量的一致性和可靠性。
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Cechy charakterystyczne

特性

测量功能

可以同时测定:

  • 多个层厚度
  • 的折射指数(n(λ))
  • 灭绝(吸收)系数(k(λ))
  • 能量带隙(如)
  • 临界尺寸(CD)测量

系统组件

标准:

  • 反射光谱测量
  • 光谱传输测量
  • 专利microscope-based光学设计允许sub-10µm点低功率的目的
  • 5 nm - 50嗯厚度范围
  • 2嗯光斑大小(5 x10嗯标准)
  • 自动化与自动对焦
  • 相机成像测量位置
  • 模式识别
  • 大型平板显示器应用程序自定义阶段
  • 先进材料建模软件
  • 力量的广义物质模型与先进的全局优化算法

可选:

  • 自动平板/晶片处理
  • 平板总厚度变化(TTV)测量
  • 秒/宝石

Aplikacje

应用程序

典型应用领域

典型的应用领域包括:

  • 晶片/ CD计量
  • 平板显示器

灵活的软件,可以很容易地修改以满足独特的客户需求研发和生产环境。

Specyfikacje

技术规格

膜厚度范围 5 nm 350µm (5 nm 150µm标准)
膜厚度精度 1000±1.5 NIST可追踪的标准氧化1µm
光谱范围 380 nm - 1700 nm (380 nm - 1000 nm标准)
测量光斑大小 2µm (5 x10µm标准10倍的目标)
样本大小 2毫米- 600毫米(150毫米标准)
光谱分辨率 0.3 - 2海里
光源 监管的卤素灯(2000小时寿命)
探测器类型 2048像素索尼冷却滨松InGaAs CCD线阵CCD阵列/ 512像素阵列(NIR)
电脑 多核处理器操作系统Windows™10
测量时间 < 1秒/站点(例如,氧化膜)

性能规格

电影(年代) 厚度 测量参数 精度()
氧化/ Si 500 - 1000纳米 t 0.025纳米
1 - 150µm t 0.005%

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