自动化的AFM计量

洞察力法新社

第五代法新社与行业最高的分辨率,最快的分析和快速三维映射而死

内联计量

领先铸造厂和内存制造商的首选

하이라이트

长期稳定、先进的过程控制和发展生产力

洞察力法新社是世界上最高的性能和行业首选CMP分析和腐蚀深度计量系统先进技术节点。的组合现代尖端扫描仪固有的电容稳定指标和一个精确的空气轴承定位系统使无损,直接测量有效面积的死亡。

0.3纳米
长期稳定
提供NIST-traceable参考计量测量稳定在一年
260 - 340网站/小时
最高生产率的嵌入式应用程序
老妈次数降低优化晶片处理保持50片/小时的吞吐量
36000µm /秒
分析速度
提供高分辨率的3 d与热点识别特征

특징

特性

最高分辨率和最长的生命

洞察法新社TrueSense®技术,证明了长扫描原子力分析器的能力。蚀刻深度、碟形,在亚微米和侵蚀特性可以完全自动化监控与无与伦比的可重复性不依赖测试键或模型。它是独特的

过程

完全自动化,内联过程控制腐蚀和CMP晶片

的洞察力法新社结合原子力显微镜的最新创新,包括力量的专有CDMode描述侧壁特性和粗糙度。CDmode减少浆纱切片的数量要求,实现显著的成本节约。另外,据法新社数据提供了一个直接侧壁粗糙度测量,不能通过其他方法获得的。

产量提高

自动化缺陷评估和分类

今天的设备造成缺陷主要ICs比以往任何时候都小,需要快速解决HVM要求。洞察力法新社提供快速、可行的地形和材料缺陷在半导体晶片上的信息和phtomasks允许制造商迅速识别defectivity来源并消除它们对生产的影响。

登记100 x高分辨率光学和AFM全局比对使小于±250海里原始图像位置精度的晶片和面具确保缺陷测量感兴趣的缺陷。

该系统完全兼容KLARITY和大多数其他YMS系统。

研发

三维模映射和HyperMap™

波兰热点后检查-扫描速率:26毫米/秒;扫描的行数:33000

分析速度高达36000µm /秒使快速、完整的3 d post-CMP描述和检验的33毫米x 26毫米flash字段和大。子2 nm出平面运动的真正的大规模地形和全自动波兰热点检测。

在这个例子中,标准,26毫米x 33毫米十字线场扫描是在24小时内获得像素大小在1微米x 1微米。热点可以自动检测并重新扫描使用力量的热点探测和评估能力。

응용

应用程序

你的挑战是什么?

子纳米分析灵敏度

CMP先进过程控制

过程控制要求精度,精度和长期再现性;CMP过程控制需要所有这些的同时保持敏感性现代抛光技术的子纳米地形方面,中期,和古代的行结束。洞察力法新社的微微米灵敏度保证检测的波兰残余地形。与2微微米,长远来看,probe-to-probe重复性和再现性,这是信任数据过程控制。
高纵横比深度计量

腐蚀先进过程控制

腐蚀深度计量过程控制,一个简单的、关键,问;DTMode就是答案。DTMode是力量专有的自适应扫描模式,证明最低总测量不确定性(本校)任何AFM深度的计量。< 10年代老妈,DTMode使所需的深度计量HVM腐蚀过程控制。
NAND和电力设备

腐蚀过程开发

测量两次…。剪一次。计量作为流程的一部分,发展比以往任何时候都更为重要。短循环,过程变量和复杂需要计量系统非常灵活,适应性强,同时保持关键的准确度和精密度要求。洞察力法新社的简单、直观的食谱接口使计量过程开发通过XML / CAD接口,使配方在< 5分钟。
逻辑与记忆

CMP过程开发

计量为CMP过程开发需要速度、准确性、精密和同时允许所需的灵活性,健壮的食谱。扩展范围,super-flat扫描仪小于1纳米计划运动在整个105μm扫描范围保证计量精度最高最低的地形。结合扩展范围,105年μm扫描仪的大面积扫描模式使计量CMP过程开发从10 nm的300毫米。
新的指标和新的挑战

光刻EUV APC

过渡到EUV光刻技术带来了许多新的计量指标,必须被监控。这些新指标之一是顶线粗糙度(LTR)。LTR并与defectivity和产量结果两个拒绝讨论。作为抵抗较低(平均9%)发展大大减少换行缺陷和显示了更好的收益(抵制B)。因此,当你分析岗位开发可以用于早期筛查的新抵制配方,帮助预测沥青——性能存在剂量依赖的相关性以及允许产量预测。洞察力法新社的TrueSense™模式提供了最高分辨率的AFM图像无损顶线粗糙度EUV过程监控
非破坏性混合计量

光刻EUV过程开发

电子束抵抗收缩EUV抗拒的仍然是一个问题。描述和理解如何抵制概要更改ebeam接触是至关重要的发展中最好的EUV过程模型的发展。洞察力法新社的TrueSense™模式是解决这一挑战。TrueSense™依赖瞬时反馈使pico牛顿力的控制确保精度最高,非破坏性表面分析。测量那些暴露的地区和领域不暴露出抵御剖面变化特征。这些额外的数据输入到计量工具来生成更好的更快的过程开发模型。这就要求法新社和扫描电镜测量相同的特性。这是通过分享食谱通过XML接口和子250海里原始图像位置准确性。

지원

支持

我们如何帮助?

力量合作伙伴与客户解决实际应用问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择合适的系统及配件。这种伙伴关系继续通过培训和扩展服务,很久以后销售的工具。

我们的训练有素的团队的支持工程师,科学家和应用主题专家是完全致力于最大化工作效率与系统服务和升级,以及应用程序的支持和培训。

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